abonneren

Globalfoundries toont nieuwe silicontechniek

Globalfoundries heeft het 2009 VSLI Technology Symposium in Kyoto gebruikt om een gloednieuwe productietechniek te tonen aan het publiek. De nieuwe techniek maakt het mogelijk om gemakkelijker transistoren te produceren bij productieprocessen tot ver voorbij 22 nanometer.Volgens Globalfoundries liggen ze voor op schema en zullen ze als eerste grote halfgeleiderfabrikant overstappen op 32nm-massaproductie. Een 32nm-wafer werd al eerder op de Computex getoond. De fabrikant claimt ook als eerste bij 22 nanometer aan te zullen belanden.
Het huidige productieproces schaalt dankzij de nieuwe techniek makkelijk mee, zonder lekkage te vergroten.

Op dit moment maken halfgeleiderfabrikanten gebruik gemaakt van HKMG (High-K Metal Gate) transistoren. De EOT (Equivalent Oxide Thickness)-laag van deze transistor zorgt bij veel halfgeleiderfabrikanten voor problemen. Een kleiner productieproces betekent een kleinere EOT, maar dit leidt tot lekkage, waardoor de chip onzuinig wordt. Globalfoundries claimt dit probleem met hun nieuwe techniek omzeild te hebben zonder concessies aan de prestaties te hoeven doen.

The Inquirer

Geschreven door: Xander Hoose op

Category: Nieuws, Algemeen

Tags:

Laatste reactie